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主催

OITDA 一般財団法人 光産業技術振興会

企画推進

(株)ICSコンベンションデザイン

メディアスポンサー

Laser Focus World JAPAN

お問合わせ先

インターオプト事務局
(株)ICSコンベンションデザイン

〒101-8449
東京都千代田区猿楽町1-5-18
千代田ビル
Tel: 03-3219-3643
Fax: 03-3219-3628
email: interopto@ics-inc.co.jp

前回開催報告(2011年)

会 期:
2011年9月28日(水)-9月30日(金)
会 場:
パシフィコ横浜 展示ホールC,D
主 催:
(財)光産業技術振興協会(OITDA)
企画・推進:
(株)ICSコンベンションデザイン
後 援:
経済産業省、日本貿易振興機構、(財)日本科学技術振興財団、(財)対日貿易投資交流促進協会、出品国政府及び関連機関
協 賛:
(社)応用物理学会、(社)精密工学会、(社)電気学会、(社)電子情報技術産業協会、 (社)電子情報通信学会、(社)情報通信ネットワーク産業協会、 (社)日本電機工業会、(社)日本電線工業会、(社)計測自動制御学会、 レーザ加工学会、レーザー輸入振興協会、レーザ協会、OSA(米国)、 SPIE(米国)
同時開催:
BioOpto Japan 2011、LaserTech 2011、LEDジャパン2011/ Strategies in Light
出展者数:
86(前回出展者一覧参照)/出展小間数:133小間
来場者数
(同時開催展含む):
開催日 天候 来場者数
9月28日(水) 晴れ 3,729
9月29日(木) 雨 3,823
9月30日(金) 雲時々晴れ 4,679
3日間合計 12,231

来場者分析

前回出展者一覧

BioOpto Japan 2011 出展はこちらからLaserTech 2011 出展はこちらからLED JAPAN Strategies in Light 出展はこちらから

前回セミナー

注目される光技術セミナー

会場:展示会場内セミナー会場

9月28日
(水)
【1日目】
11:10-11:50 サブ波長構造による構造性複屈折を利用した
二波長光ホログラムシステム
ナルックス株式会社/武田 克也
13:10-13:50 レーザ光による非接触計測技術 株式会社東洋精機製作所/小林 幸一
14:00-14:40 DWPR多元多点光ファイバセンシングシステム 株式会社渡辺製作所/井上 恵一
14:50-15:30 低価格OCTスキャナと最新光検出技術 パルステック工業株式会社/池谷 博文
9月29日
(木)
【2日目】
11:10-11:50 高速制御光増幅技術 株式会社トリマティス/佐藤 典彦
13:10-13:50 SCIVAXのナノインプリント量産技術 SCIVAX株式会社/田中 覚
14:00-14:40 高輝度LEDを用いた直下型フラット照明技術 株式会社オプトデザイン/末永 展行
14:50-15:30 梱包のトータルコスト削減 ハイテク情報サービス株式会社/
高橋 克彦

光産業動向セミナー

会場:パシフィコ横浜 アネックスホール F201+202

9月28日
(水)
10:30-10:35 主催者挨拶 一般財団法人光産業技術振興協会/
小谷 泰久
10:35-11:05 光産業全体の最新動向 千歳科学技術大学大学院/石田 宏司
11:05-11:35 入出力分野の最新動向 キヤノン株式会社/守屋 光紳
12:30-13:30 特別講演:スマートフォン・タブレット端末のサービス及び ユーザ利用状況の動向 株式会社日経BP/加藤 雅浩
13:45-14:15 光通信分野の最新動向 千歳科学技術大学/山林 由明
14:15-14:45 ディスプレイ・固体照明分野の最新動向 電気通信大学/御子柴 茂生
14:45-15:15 センシング・計測分野の最新動向 筑波大学/伊藤 雅英
15:15-15:45 レーザ加工分野の最新動向 独立行政法人理化学研究所/杉岡 幸次
15:45-16:15 太陽光発電分野の最新動向 株式会社資源総合システム/一木 修
16:15-16:45 光メモリ分野の最新動向 株式会社三菱化学科学技術研究センター/吉田 秀実

光技術動向セミナー

会場:パシフィコ横浜 アネックスホール F201+202

9月29日
(木)
10:30-10:35 主催者挨拶 一般財団法人光産業技術振興協会/
小谷 泰久
10:35-11:05 光材料・デバイスの最新動向 株式会社日立製作所/土屋 朋信
11:05-11:35 ディスプレイの最新動向 パナソニック株式会社/打土井 正孝
11:35-12:05 太陽光発電の最新技術動向 独立行政法人産業技術総合研究所/
近藤 道雄
12:05-12:35 加工・計測の最新動向 大阪大学/藤田 雅之
13:45-14:15 光メモリ・情報処理の最新動向 神戸大学/的場 修
14:15-15:15 特別講演:Face-to-Faceコミュニケーションへ向けてのフォトニクスポリマーの最前線 慶応大学/小池 康博
15:15-15:45 光通信ネットワークの最新動向 日本電信電話株式会社/石田 修
15:45-16:15 光通信ネットワークの最新動向 株式会社リコー/宮下 隆明

出展者セミナー

会場:展示会場内セミナー会場

9月28日
(水)
15:00-15:45 シャックハルトマンセンサーにおける反射波面計測と光学セッティング Ralf Dorn, Optocraft社
(オーテックス株式会社)
16:00-16:45 精密レーザー加工に最強のプラナーステージはなぜ高精度なのか?そのメカニズムと応用について Olaf Mollenhauer, Tetra社
(オーテックス株式会社)
9月29日
(木)
15:00-15:45 各種レーザーによる材料加工効率とスループットの改善 Dr. Rajesh(Raj) S. Patel, Ph.D., Director, Strategic Marketing & Applications
(スペクトラ・フィジックス株式会社)
16:00-16:45 Oclaro社 高出力半導体レーザーとそのアプリケーション Bernd Meyer, General Manager, High Power Laser Business, Oclaro Inc.
(スペクトラ・フィジックス株式会社)
9月30日
(金)
10:30-11:15 台湾におけるグリーンエネルギーと光電産業のクラスターの推進現状 Chiou Lien-Chi, Low Carbon Promotion Office of STSP Project Executive (Photonics Industry &Technology Development Association)

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